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    加熱制冷單元溫度控制的基本配置

    簡要描述:【無錫冠亞】加熱制冷單元溫度控制的基本配置,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

    • 產品型號:SUNDI-635
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2025-01-13
    • 訪  問  量:903
    詳情介紹
    品牌LNEYA/無錫冠亞價格區間5萬-10萬
    產地類別國產應用領域醫療衛生,化工,生物產業,石油,航空航天

    <strong><strong><strong><strong>企業選擇TCU反應釜溫控系統需要注意哪些</strong></strong></strong></strong> 

    無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

    高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

    雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

    小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

    組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

    <strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong>

    型號SUNDI-655WVSUNDI-675WVSUNDI-6A10WVSUNDI-6A15WVSUNDI-6A25WV
    介質溫度范圍-60℃~+300℃ (系統加壓3BAR)
    控制系統前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
    溫控模式選擇物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
    溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
    程序編輯可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟
    通信協議MODBUS RTU 協議  RS 485接口
    外接入溫度反饋PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)
    溫度反饋設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
    導熱介質溫控精度±0.5℃
    反應物料溫控精度±1℃
    加熱功率 kW5.57.5101525
    制冷量 kW  AT300℃5.57.5101525
    100℃5.57.5101525
    20℃5.57.5101525
    -20℃4.868.21225
    -40℃2.33.14.87.818
    -55℃0.750.91.52.86
    流量壓力 max  L/min bar355060110150
    222.52.52.5
    循環泵冠亞磁力驅動泵
    壓縮機法國泰康活塞壓縮機意大利都凌/卡萊爾/艾默生
    膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥+艾默生電子膨脹閥
    蒸發器丹佛斯/高力板式換熱器
    操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
    安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
    密閉循環系統整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。
    制冷劑R-404A/R23混合制冷劑
    接口尺寸G3/4G1G1G1DN32 PN10
    水冷型 W
    溫度 20度
    1800L/H
    1.5bar~4bar
    G3/4
    2100L/H
    1.5bar~4bar
    G3/4
    3000L/H
    1.5bar~4bar
    G1
    4000L/H
    1.5bar~4bar
    G1 1/8
    8.5m³/H
    1.5bar~4bar
    DN40
    外形尺寸 cm55*100*17555*100*17570*100*17580*120*185100*150*185
    重量kg265305340380980
    電源 380V50HZ10kW14kW18kW26kW40kW

     <strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong>

    加熱制冷單元溫度控制的基本配置

    加熱制冷單元溫度控制的基本配置

       隨著加熱制冷單元溫度控制的不斷優化與進步,其加熱制冷單元溫度控制也不斷在市場上得到一定的推廣銷售,通過高性能的加熱制冷單元溫度控制,大大提升了其操作性能。

      在制藥化工行業的控溫領域里,準確控溫是其中比較重要的一項工作,可以通過多樣的觀察與分析中得到了準確的數據以及準確的運用,加熱制冷單元溫度控制設備用途日益擴大,在新能源以及芯片行業的運用也在不斷的擴張,不斷致力于各行業的控溫難題的解決。

      加熱制冷單元溫度控制裝置改變控制設定值的方法,能夠盡快的響應過程中的系統滯后,得到較小的系統過沖。控制由兩組PID(每組PID是可變的)控制回路構成。專門設計的滯后預估器(無模型自建樹算法)產生一個代替過程變量y(t)的動態信號yc(t)來作為反饋信號。對控制器產生一個e(t)信號,使控制器預判控制作用沒有大的滯后,這樣控制器總是能夠產生一個合適的控制信號。無錫冠亞加熱制冷單元溫度控制裝置通過三點采樣(物料溫度點、溫控系統出口溫度、溫控系統溫度),通過無模型自建樹算法和一般抗滯后串級算法相結合。

      近年來為了實現各種加熱制冷單元溫度控制設備的高功能化和高性能化,需要觀察并優化加熱制冷單元溫度控制設備配置,目前加熱制冷單元溫度控制設備使用頻率日益高漲。同時市場也對加熱制冷單元溫度控制設備的操作性能提出了更高的要求,以進一步減輕操作人員的負擔。 

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